Στόχος τιτανίου

Καθαρότητα
Η καθαρότητα είναι ένας από τους κύριους δείκτες απόδοσης του στόχου, επειδή η καθαρότητα του στόχου έχει μεγάλη επιρροή στην απόδοση της ταινίας . Ωστόσο, σε πρακτικές εφαρμογές, οι απαιτήσεις καθαρότητας για το στόχο δεν είναι το ίδιο. για παράδειγμα, με την ταχεία ανάπτυξη της βιομηχανίας μικροηλεκτρονικών, το μέγεθος του πυριτίου έχει αναπτυχθεί από το 6 ", 8". 0 . 5UM έως 0 . 25UM, 0.18UM ή ακόμα και 0.13UM και το προηγούμενο 99,995% της καθαρότητας μπορεί να πληροί τις απαιτήσεις της διαδικασίας 0,35UMIC.
Περιεχόμενο ακαθαρσίας
Οι ακαθαρσίες στα στερεά στόχους και το οξυγόνο και τους υδρατμούς στους πόρους είναι οι κύριες πηγές ρύπανσης των εναποτιθέμενων μεμβρανών . στόχων για διαφορετικούς σκοπούς έχουν διαφορετικές απαιτήσεις για διαφορετική περιεκτικότητα σε ακαθαρσίες . για παράδειγμα, οι καθαρές στόχοι κράματος αλουμινίου και αλουμινίου που χρησιμοποιούνται στη βιομηχανία ημιαγωγών
Πυκνότητα
Προκειμένου να μειωθεί το πορώδες στο στερεό στόχο και να βελτιωθεί η απόδοση της μεμβράνης, ο στόχος απαιτείται συνήθως για να έχει υψηλή πυκνότητα . Η πυκνότητα του στόχου όχι μόνο επηρεάζει τον ρυθμό ψεκασμού, αλλά και την ηλεκτρική και την οπτική ιδιότητες της μεμβράνης {{1} την υψηλότερη πυκνότητα του υλικού, την καλύτερη απόδοση της μεμβράνης {{}}. του στόχου καθιστά τον στόχο να είναι καλύτερα σε θέση να αντέξει τη θερμική τάση κατά τη διάρκεια της ψεκασμού . Η πυκνότητα είναι επίσης ένας από τους βασικούς δείκτες απόδοσης του υλικού στόχου .